삼성전자의 올해 시설투자액이 25조원에 달할 전망이다.
21일 금융감독원 전자공시시스템, 관련업계에 따르면 삼성전자는 올해 1분기 시설투자로 전년 동기 3조8800억원 대비 39.2% 늘어난 5조4000억원을 집행했다. 사업별로는 반도체 3조3000억원, 디스플레이 7000억원 등이 투입됐다. 이에 따라 연간 총 시설 투자 규모도 작년 23조8000억원 대비 최소 5%이상 증가할 전망이다.
삼성전자의 투자 증액 요인으로는 우선 삼성디스플레이 충남 아산 A3 신공장 OLED(유기발광다이오드) 패널 라인 증설 계획이 꼽힌다. 삼성디스플레이는 내년 상반기 증설 라인 가동을 목표로 2년간 총 3조~5조원을 투입한다. 삼성디스플레이의 시설투자액은 연결기준으로 삼성전자 실적에 포함되는 만큼 올해 집행될 것으로 예상되는 1조~2조원대의 1단계 투자액이 반영될 것으로 보인다.
지난 9일 준공한 중국 시안(西安)공장의 후공정라인 등 반도체 부문의 지속적인 투자 확대도 예상된다. 삼성전자는 시안 공장에 반도체 테스트와 패키징 라인을 깔아 일관생산체제를 구축할 계획이다. 아울러 스마트폰 애플리케이션 프로세서(AP), TV 디스플레이 구동장치, 디지털카메라 등에 쓰이는 시스템 LSI 14나노 공정이 올해 말 양산체제에 들어가는 등 관련 분야에 대한 투자가 이뤄질 예정이다.
한편, 삼성전자의 최근 3년간 시설투자액은 2011년 22조6500억원, 2012년 22조8500억원, 2013년 23조8000억원 등으로 꾸준히 증가했다.