삼성전자는 2030년까지 메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 ‘반도체 비전 2030’을 핵심 목표로 세웠다. 이를 위해 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D) 및 생산시설 확충에 133조 원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용할 계획이다.
국내 R&D 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자한다. R&D 투자금액이 73조 원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대되며, 또한 생산시설 확충에도 60조 원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다. 삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.
삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조 원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만 명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다.
삼성전자는 국내 팹리스(Fablessㆍ반도체 설계 전문업체)를 지원하는 등 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업생태계를 강화한다. 국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티(Security) IP 등 삼성전자의 IP(Intellectual Propertyㆍ설계자산)를 호혜적으로 지원한다. 보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.
삼성전자는 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다. 또한, 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer)프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영한다.
한편 삼성전자는 국내 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.