[IPO] 씨앤지하이테크, 이달 코스닥 입성…화학 공급 장치·소재·플랜트 기업 도약

약품 탱크 라이닝시트 국산화·현상폐액 재생 플랜트 사업으로 성장 기반 마련

반도체·디스플레이 화학약품 초정밀 혼합 공급 장치기업 씨앤지하이테크가 코스닥 입성으로 반도체·디스플레이 산업의 장치·소재·플랜트를 아우르는 기업으로 도약한다.

씨앤지하이테크는 11일 서울 여의도에서 기업공개(IPO) 간담회를 열고 코스닥 상장 계획 및 향후 비전을 밝혔다. 씨앤지하이테크는 이달 16~17일 청약을 거쳐 25일 코스닥 시장에 상장할 예정이다. 공모 예정가는 1만6000~2만 원이며 상장예정주식수는 420만2740주다. 대표 주관사는 신한금융투자다.

씨앤지하이테크는 2003년에는 완전히 새로운 방식의 화학약품 혼합 중앙 공급 장치를 업계 최초로 개발했다. 기존 장치는 중앙에서 각 세정 장비에 원액을 보내 간이 혼합하는 방식이었으나, 씨앤지하이테크는 중앙에서 화학약품을 일괄 혼합해 공급하는 초정밀 혼합 공급 장치를 개발했다. 이 방식은 장비 간 농도 및 온도 편차를 없애 생산성과 품질 향상에 크게 기여하며, 전체 장치 가격도 절감할 수 있다.

주요 고객사는 삼성전자, SK하이닉스, 삼성디스플레이, BOE 등이다. 2003년 새로운 화학약품 중앙 공급 장치를 삼성전자에 제안해 채택된 이후 제품 공급 지속 및 고객사 다각화를 진행해왔다.

고객사 확대로 매출도 증가세에 있다. 2016년 매출액 443억 원, 영업이익 65억 원을 기록했으며, 2017년 3분기 누적기준으로 이미 전년 연간 실적을 뛰어넘는 매출액 612억 원, 영업이익 80억 원을 달성했다.

씨앤지하이테크는 전세계 반도체·디스플레이 전방산업 확대를 기반으로 일본 나가세산업과 협력 강화를 통해 중국 시장을 확대할 방침이다. 특히, 기술 발전으로 인한 공정 미세화 및 생산 캐파(CAPA) 향상에 따른 화학약품 사용 증가로 대용량 장치 수요가 크게 늘어날 것으로 회사 측은 기대하고 있다.

회사는 안정적 성장을 위해 소재 및 플랜트 부문 신사업을 추진할 계획이다. 먼저 전량 수입되고 있는 약품 탱크 라이닝시트를 국산화한다. 일본 D사와 협업해 생산 공정을 일부에서 전 단계로 점차 확대할 계획이다. 올해 3분기 국산화 라인설계 및 설비 도입, 내년 자체 생산을 예정하고 있다.

중장기적으로는 플랜트 사업을 추진한다. 디스플레이 세정 후 발생하는 대량의 현상폐액을 회수, 정제해 재활용하는 사업이다. 디스플레이 제조 물량 증대에 따라 각종 제조공정 현상폐액 발생량이 증가하고 있으며, 이는 생태독성물질을 다량 포함하고 있어 처리 비용 부담이 크다. 핵심 기술을 가진 미국 S사, 일본 N사와 올해 합작법인을 설립하고 내년부터 현상폐액 재생 플랜트를 설치, 운용할 방침이다.

홍사문 씨앤지하이테크 대표는 “끊임없는 변화와 혁신을 통해 화학약품 초정밀 혼합 공급 장치 사업의 매출을 확대하고, 신사업 추진으로 화학 공급 장치·소재·플랜트를 아우르는 글로벌 기업이 되겠다”고 포부를 밝혔다.