[혁신경영] 삼성전자, 2027년 1.4나노 공정 도입…반도체 초격차

입력 2022-10-23 15:07
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▲삼성전자 임직원들이 6월 화성캠퍼스에서 3나노 웨이퍼를 보여주고 있다. (사진제공=삼성전자)
▲삼성전자 임직원들이 6월 화성캠퍼스에서 3나노 웨이퍼를 보여주고 있다. (사진제공=삼성전자)

삼성전자는 반도체, 인공지능(AI), 차세대통신 등 미래 신사업을 중심으로 연구개발에 매진하고 있다.

삼성전자는 차별화된 기술력으로 ‘반도체 초강대국’ 달성을 주도해 국가 경제 발전에 기여한다. 4차 산업혁명의 핵심 기반기술인 반도체 산업에서 한국 반도체가 한국 경제의 성장판 역할을 지속할 수 있도록 지원하는 의미도 있다.

삼성전자는 지난 30년간 선도해 온 메모리 기술에서 초격차 위상을 강화한다. 공정 미세화의 한계를 극복할 수 있는 신소재·신구조에 대한 연구개발(R&D)을 강화하고, 반도체 미세화에 유리한 EUV(극자외선) 기술을 조기에 도입하는 등 첨단기술을 선제적으로 적용하고 있다.

삼성전자는 파운드리 사업에서 차별화된 차세대 생산 기술을 개발 적용해 세계 최초로 3나노 이하 제품 양산을 시작했다. GAA(게이트올어라운드, 2나노 이하 초미세 반도체 생산에 사용되는 기술) 등을 적용하고 차세대 패키지 기술 확보로 연산칩과 메모리가 함께 탑재된 융복합 솔루션을 개발해 업계 선두권 도약의 발판을 마련하고 있다. GAA 기반 공정 기술 혁신을 지속해 2025년에는 2나노, 2027년에는 1.4나노 공정을 도입한다.

삼성전자는 AI 글로벌 연구개발 역량 확보와 기반 생태계 구축 지원에 힘쓰고 있다. 전 세계 7개 지역(서울, 미국 실리콘밸리·뉴욕, 영국 케임브리지, 캐나다 토론토·몬트리올, 러시아 모스크바)의 글로벌 AI 센터를 통해 선행 기술연구에 나섰다. 삼성미래기술육성사업을 통해 국내 신진 연구자들의 혁신적인 AI 연구에 대한 지원도 확대하고 있다.

삼성전자는 Beyond 5G·6G 등 선행연구를 주도하고 6G 핵심 기술 선점 및 글로벌 표준화를 통해 통신 분야에서도 초격차를 추진하고 있다.

삼성전자 DX부문은 사업간 경계를 뛰어넘는 통합 시너지를 확대하고, 미래 신성장 동력을 발굴 육성하는데 연구개발 역량을 집중해 나가고 있다. 삼성전자는 스마트싱스를 통해 소비자들이 어떤 디바이스를 쓰더라도 동일한 경험을 느끼고 차원이 다른 가치를 느낄 수 있게 할 계획이다.

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