SK하이닉스는 16일 중국 심천에서 주요 모바일 업체 대상 ‘2016 SK하이닉스 모바일 솔루션 데이’행사를 개최했다. 3회째를 맞는 이번 행사의 슬로건은 ‘함께 한계를 극복하고 전진하자’로, 400명이 넘는 업계 관계자들이 참석해 SK하이닉스의 모바일 D램과 낸드플래시 솔루션, CIS(CMOS 이미지센서)에 대한 큰 관심을 드러냈다.
지난해에 이어 올해도 SK하이닉스의 중국 주요고객인 화웨이, 샤오미, 레노버 등과 중국 최대 이동통신사 차이나모바일, 칩셋업체 퀄컴, 미디어텍 등 모바일 업계 핵심 업체들이 참석했다. 또 스마트폰업체 오포, 비보와 통신업체 차이나유니콤이 자리했다. 특히 퀄컴과 미디어텍, 스프레드트럼은 기조연설을 통해 중국 시장 대응을 위한 제품 개발 전략 및 SK하이닉스와의 협력 강화 필요성을 강조했다.
SK하이닉스는 이날 행사에서 향후 중국 모바일 시장 대응전략 및 제품 운영계획을 소개했다. 더불어 SK하이닉스의 주력제품 고성능 솔루션을 다수 선보였다. D램에서는 20나노 초반급 공정 기반의 6GB·4GB LPDDR4 솔루션을 공개했고 하반기 ‘LPDDR4’ 대비 전력효율을 20% 가량 개선한 ‘LPDDR4X’솔루션 개발 계획을 언급했다.
SK하이닉스는 또 낸드플래시의 경우 2세대 3D 낸드 기반의 모바일용 128·64·32GB UFS 2.1 제품의 고객인증을 진행 중이며 자동차용 64·32·16·8GB eMMC 5.1 제품도 주요고객 샘플링을 진행하고 있다고 밝혔다. 다양한 고객 요구에 맞춘 500만 화소부터 1300만 화소까지의 CIS도 공개했다.
송현종 SK하이닉스 마케팅부문장은 “중국은 양적·질적 성장을 바탕으로 모바일 생태계의 중심이 됐다”며 “SK하이닉스는 주요고객 지원 및 전략적 협력 강화를 통해 최적의 모바일 솔루션을 제공할 것”이라고 말했다.